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本文闡述了陶瓷球精密研磨加工參數的選擇與其性能和 加I _ 效率的關系,介紹了氮化硅陶瓷球磁懸浮拋光 (F)、化學機械拋光 (M )方法等超精密加工的新技
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(上海交通大學微電子學院, 上海 200240) 摘要: 化學機械研磨是當今唯一能夠提供用于超精密硅晶片表面的化學機械拋光(CMP)技術研究[J]. 潤滑與密封,
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