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用升華法在硅襯底上外延生長β碳化硅薄膜--《西安理工大學》。摘要:碳化硅是一種新型半導體材料,具有禁帶寬、載流子飽和速度高、臨界擊穿電場強度高、熱導率高等特點,可用來制作高溫、高頻、大功率器件,但材料制備難度大,β碳化。
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西蒙破碎機|重工礦渣立式磨良好反潰,復合式破碎機使用售命長、維修方便、操作簡單、成品效果好等優(yōu)點。ThePrev:覆Cu碳化硅粉TheNext:西安礦石破碎機近期文章分類目錄大型移動破碎站設備
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添加劑對二氧化硅包裹碳化硅材料性能的影響-道客巴巴閱讀文檔積分-上傳時間:年月日!!Q!旦壘墮璺!!!!世!!!!型:!!盟!!(!堅墮!墮!:!添加劑對二氧化硅包裹碳化硅材料性能的影響談國強李建波(陜西科技大學材料科學與工程學院咸陽l中鐵一局集團公司一。
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